合成部門
当部門では、益々のスピードアップを要求される研究開発のお手伝いをするという基本方針のもと、30年前より受託合成及び受託製造を行っています。新規化合物の実験、スケールアップ製造への製造工程の確立、新規合成ルートによる製造など、大いにご利用下さい。
受託合成の流れ
1
秘密保持契約
包括的なまたは化合物に対して秘密保持契約の締結。
2
条件検討
文献検索、弊社で培ったノウハウ・技術による合成法の提案。
3
お見積り
2.の検討結果を基にお見積りを作成。
4
少量検討
類似反応の実績がある場合は、少量検討を除く場合もあります。
5
本生産
ご注文量に応じた本生産。
6
精製
減圧蒸留、再結晶、シリカゲルカラムクロマト精製等による目的化合物の単離、精製。
7
分析
弊社の保有分析機器により構造、純度を確認。
別途、ご要望の分析項目があれば、状況に応じて外部分析会社に分析依頼を行います。
8
納品
ご要望に応じて合成報告書を作成。
設備一覧
釜設備
- 1000L
- SUS
- 0℃～120℃ 加熱：温水、蒸気 冷却：ブライン
- 2基
- 500L
- SUS
- 0℃～120℃ 加熱：温水、蒸気 冷却：ブライン
- 1基
- 300L
- SUS
- 0℃～120℃ 加熱：温水、蒸気 冷却：ブライン
- 1基
- 1000L
- GL
- -5℃～120℃ 加熱：温水、蒸気 冷却：ブライン
- 1基
- 200L
- GL
- -5℃～120℃ 加熱：温水、蒸気 冷却：ブライン
- 2基
反応装置
- 100L
- SUS
- -60℃～220℃ 加熱：電気（油浴、水浴） 冷却：氷、ドライアイス
- 50L
- SUS
- -60℃～220℃ 加熱：電気（油浴、水浴） 冷却：氷、ドライアイス
- 100L
- GL
- -60℃～220℃ 加熱：電気（油浴、水浴） 冷却：氷、ドライアイス
- 50L
- GL
- -60℃～220℃ 加熱：電気（油浴、水浴） 冷却：氷、ドライアイス
- 30L
- GL
- -60℃～220℃ 加熱：電気（油浴、水浴） 冷却：氷、ドライアイス
遠心分離
- 24インチ
- SUS
- 遠心分離機
- 5基
ろ過器
- 65センチ
- SUS
- 減圧濾過装置
- 4基
- 65センチ
- テフロンコーティング
- 減圧濾過装置
- 1基
- 50センチ
- SUS
- 減圧濾過装置
- 1基
- 50センチ
- テフロンコーティング
- 減圧濾過装置
- 2基
大型カラム管
- 50センチφ
- SUS
- シリカゲル 50Kg
- 2基
- 40センチφ
- GL
- シリカゲル 30Kg
- 2基
- 20センチφ
- SUS
- シリカゲル 10Kg
- 3基
乾燥機
- 1m3
- SUS
- 温風乾燥機
- 4基
- 1m3
- SUS
- 真空乾燥機
- 3基
エバポレーター
- 2L
- SUS
- 2Lエバポレーター
- 9基
- 10L
- GL
- 10Lエバポレーター
- 1基
- 20L
- SUS
- 20Lエバポレーター
- 2基
実績例
- 光学活性化合物の合成
- アシル化
- アミノ化
- アルキル化
- アルキル金属の反応
- エステル化
- エーテル化
- スルホン化
- ヒドロキシル化
- ホウ酸化
- ニトロ化
- 金属水素化物の反応
- Friedel-Crafts反応
- Grignard反応
- Horner-Emmons反応
- suzuki反応
- Wittig反応
- Buchwald-Hartwing 反応
※ 未経験反応についても文献調査の上対応致します